對乙酰氧基苯乙酮
對乙酰氧基苯乙酮可用于合成作為光致抗蝕劑主要成分的聚對羥基苯乙烯。聚對羥基苯乙酮系列的化學增幅型光致抗蝕劑是較為主流的光致抗蝕劑。用于處理光蝕刻集成電路,制造芯片的關鍵技術之一。
對對羥基苯乙烯為原料,經對羥基苯基甲基甲醇制備對乙酰氧基苯乙烯的方法。這種合成方法工藝步驟少,而且對羥基苯基甲基甲醇在酸催化劑和乙?;噭┑拇嬖谙?,加熱脫水直接形成對乙酰氧基苯乙烯。
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